研磨用組成物

Polishing composition

Abstract

【課題】相変化合金を有する研磨対象物を研磨する用途で好適に用いることができる研磨用組成物を提供する。特に、有機残渣の低減が可能な研磨用組成物を提供する。 【解決手段】本発明の研磨用組成物は、相変化合金を有する研磨対象物を研磨する用途で使用される研磨用組成物であって、イオン性添加剤を含有することを特徴とする研磨用組成物である。このようなイオン性添加剤の例としては、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤又は電荷を持った水溶性高分子が挙げられる。 【選択図】なし
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polishing composition capable of being suitably used for an application in which an object to be polished including a phase change alloy is polished, and specifically to provide a polishing composition capable of reducing an organic residue.SOLUTION: A polishing composition of the present invention is a polishing composition used for an application in which an object to be polished including a phase change alloy is polished, and contains an ionic additive. Examples of the ionic additive may include a cationic surfactant, an anionic surfactant, an amphoteric surfactant or a water-soluble polymer having an electrical charge.

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